貴金屬執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)

標(biāo)準(zhǔn)號

名稱

適用范圍

實(shí)施日期

GB 11887-2012

首飾 貴金屬純度的規(guī)定及命名方法

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了首飾中貴金屬的純度范圍、印記、測定方法和貴金屬首飾的命名方法。

本標(biāo)準(zhǔn)適用于首飾行業(yè)和國內(nèi)生產(chǎn)及銷售的貴金屬首飾。貴金屬擺件參照執(zhí)行。

2013-05-01

GB/T18043-2013

貴金屬首飾含量無損檢驗(yàn)方法-X射線熒光光譜法

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了應(yīng)用X射線熒光光譜測定首飾中貴金屬含量的方法及要求。

本標(biāo)準(zhǔn)適用于首飾和其他工藝品的定性分析及其中的貴金屬（金、銀、鉑、鈀）含量的篩選檢測。

2014-03-01

QB/T 2062-2015

貴金屬飾品

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了貴金屬飾品（以下簡稱飾品）的分類、要求、試驗(yàn)方法、檢驗(yàn)規(guī)則及標(biāo)志、包裝、運(yùn)輸、貯存。
　　本標(biāo)準(zhǔn)適用于金、銀、鉑、鈀等貴金屬及其合金制成的首飾，也適用于貴金屬及其合金制成的工藝品及擺件。

2016-03-01

QB/T 1690-2021

貴金屬飾品質(zhì)量測量允差的規(guī)定

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了貴金屬飾品的質(zhì)量測量允差時(shí)天平的要求、計(jì)算和判定及標(biāo)識(shí)，界定了術(shù)語和定義，描述了相應(yīng)的測量方法。

本標(biāo)準(zhǔn)適用于以質(zhì)量作為結(jié)算依據(jù)，且質(zhì)量不大于20000g的貴金屬飾品的貿(mào)易。

2022-04-01

GB/T 28020-2011

飾品

有害元素的測定

X射線熒光光譜法

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了飾品中有害元素的X射線熒光光譜檢測方法。

本標(biāo)準(zhǔn)適用于各種材質(zhì)的飾品（珠寶玉石除外）表層中有害元素的檢測。

2012-02-01

GB/T28021-2011

飾品

有害元素的測定

光譜法

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了飾品中有害元素的含量及溶出量的光譜測定方法。本標(biāo)準(zhǔn)適用于飾品中有害元素的含量及溶出量的測定。

2012-02-01

GB28480-2012

飾品 

有害元素限量的規(guī)定

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了飾品中有害元素的種類及其限量。本標(biāo)準(zhǔn)適用于各種材質(zhì)的飾品(玉石除外)

2013-05-01

GB/T19719-2005

首飾

鎳釋放量的測定  光譜法

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了首飾中鎳的釋放量的測試方法，以測定該樣品鎳的釋放量是否大于0.5μg/(cm²·week)。本標(biāo)準(zhǔn)適用于GB11887-2002中4.3.2所規(guī)定的含鎳首飾鎳釋放量的測試，也適用于長期接觸人體皮膚的制品。

2005-09-01

GB/T17832-2021

銀合金首飾

 銀含量的測定

溴化鉀容量法

(電位滴定法)

本文件描述了采用溴化鉀容量法(電位滴定法)測定銀合金首飾中銀含量的方法。本標(biāo)準(zhǔn)適用于銀含量800‰～990‰的銀合金首飾、工藝品及其材料。這些銀合金中可能含有銅、鋅、鎘和鈀，這些元素除鈀應(yīng)在滴定前先進(jìn)行沉淀分離外，其余元素的存在不會(huì)干擾本測定方法。

本方法被GB11887指定為銀合金首飾中銀含量測定的仲裁方法。

2022-05-01

GB/T 9288-2019

金合金首飾 

金含量的測定灰吹法（火試金法）

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了采用灰吹法（火試金法）測定金合金首飾及其相關(guān)制品中含金量的方法。本標(biāo)準(zhǔn)適用于金含量在333.0‰～999.5‰的各種金合金首飾及相關(guān)制品（不含鉑、銠等不溶于硝酸的成分）金含量的測定。

本標(biāo)準(zhǔn)被GB 11887指定為金合金首飾中金含量分析的仲裁方法。

2020-05-01

GB/T38145-2019

高含量貴金屬合金首飾 金、鉑、鈀含量的測定 ICP差減法

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了采用電感耦合等離子發(fā)射光譜法（ICP-OES）測定高含量的貴金屬合金首飾中的雜質(zhì)元素含量來確定金合金首飾中的金含量、鉑合金首飾中的鉑含量、鈀首飾中的鈀含量的方法。

本標(biāo)準(zhǔn)適用于含量為995.0‰～999.9‰的貴金屬合金首飾及貴金屬合金。

2020-05-01

GB/T38162-2019

高含量銀合金首飾 銀含量的測定 ICP差減法

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了采用電感耦合等離子發(fā)射光譜法（ICP-OES）測定高含量銀合金首飾中的雜質(zhì)元素含量來確定銀含量的方法。

本標(biāo)準(zhǔn)適用于銀含量為995.0‰～999.9‰的銀合金首飾，銀合金制品可參照使用。

2020-05-01

GB/T40114-2021

貴金屬含量的測定 ICP差減法

本文件規(guī)定了通過測定金、鉑、鈀合金首飾中雜質(zhì)元素含量來確定貴金屬含量的方法。

本文件適用于金含量為725‰～999‰金合金首飾，鉑含量為800‰～999‰鉑合金首飾，鈀含量為800‰～999‰鈀合金首飾

2021-12-01

GB/T28019-2011

飾品 六價(jià)鉻的測定 二苯碳酰二肼分光光度法

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了飾品中六價(jià)鉻的二苯碳酰二肼分光光度測定方法。

本標(biāo)準(zhǔn)適用于飾品中六價(jià)鉻的測定。

2012-02-01

QB/T1131-2005

首飾

金覆蓋層厚度的規(guī)定

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了首飾制品金覆蓋層厚度的術(shù)語和定義、要求、檢驗(yàn)方法和標(biāo)識(shí)。本標(biāo)準(zhǔn)適用于非金基體的首飾制品。

2006-05-01

QB/T1132-2005

首飾

銀覆蓋層厚度的規(guī)定

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了首飾制品銀覆蓋層厚度的術(shù)語和定義、要求、檢驗(yàn)方法和標(biāo)識(shí)。本標(biāo)準(zhǔn)適用于非銀基體的首飾制品。

2006-05-01

QB/T1135-2006

首飾

金、銀覆蓋層厚度的測定

X射線熒光光譜法

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了用X射線熒光光譜法測量首飾金、銀覆蓋層厚度的方法。本標(biāo)準(zhǔn)適用于首飾及其它工藝品中金、銀等覆蓋層厚度的測定(覆蓋層與基體為非相同材質(zhì))。注：本方法測定的覆蓋層厚度相當(dāng)于足金或足銀的厚度，可根據(jù)實(shí)際金、銀覆蓋層含量進(jìn)行折算。

2006-12-01

GB/T 16921-2005

ISO3497：2000

金屬覆蓋層 覆蓋層厚度測量 X射線光譜方法

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了應(yīng)用X射線光譜方法測量金屬覆蓋層厚度的方法。

本標(biāo)準(zhǔn)所用的測量方法基本屬于測定單位面積質(zhì)量的一種方法。如果已知覆蓋層材料的密度，則測量結(jié)果也可以用覆蓋層的線性厚度表示。

本測量方法可同時(shí)測量三層覆蓋層體系，或同時(shí)測量三層組分的厚度和成分。

給定覆蓋層材料的實(shí)際測量范圍主要取決于被分析的特征X射線熒光的能量以及所允許的測量不確定度，而且因所用的儀器設(shè)備和操作規(guī)程而不同。

2006-04-01

QB/T2630.1-2004

金飾工藝畫

第1部分：金膜畫金層

本部分規(guī)定了金膜畫金層的要求和試驗(yàn)方法。

本部分適用于在金膜上印刷各種文字、圖案、書畫、照片等金膜畫的金層。

2005-01-01

QB/T2630.2-2004

金飾工藝畫

第2部分：金箔畫金層

本部分規(guī)定了金箔畫金層的要求和試驗(yàn)方法。

本部分適用于金箔畫的生產(chǎn)和檢驗(yàn)。其他貼金膠片工藝品可參照執(zhí)行。

2005-01-01